Notas de corte de Design Industrial no Sisu 2027
Compare as notas de corte de Design Industrial nas instituições participantes. Os dados de 2026 servem como referência para acompanhar o Sisu 2027 e não representam notas oficiais do próximo processo.
A página abre em Ampla Concorrência. Você pode trocar a modalidade, visualizar 20 opções por página e abrir o histórico de cada oferta para comparar notas, vagas, inscritos e candidatos por vaga ao longo dos anos disponíveis.
L2 (PPI + Baixa Renda)
Em L2 (PPI + Baixa Renda), há 1 opção de instituição para Design Industrial no Sisu 2026. A menor nota de corte foi 582,34, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO DE JANEIRO (UFRJ) • Cidade Universitária • Rio de Janeiro/RJ. A maior chegou a 582,34, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO DE JANEIRO (UFRJ) • Cidade Universitária • Rio de Janeiro/RJ. Instituição com mais inscritos foi UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO DE JANEIRO (UFRJ), com 44 inscritos. No total, a modalidade soma 44 inscrições para 8 vagas, uma concorrência de 5,5 candidatos por vaga.
Design Industrial — L2 (PPI + Baixa Renda)
20 opções por página, ordenadas da maior para a menor nota. As barras usam a escala 400–900 pontos.
DESIGN INDUSTRIAL — UFRJ
Campus: Cidade Universitária | Turno: Integral
| Ano | Nota | Vagas | Inscritos | C/V |
|---|---|---|---|---|
| 2025 | 571,64 | 8 | 43 | 5,4 c/v |
| 2026 | 582,34 | 8 | 44 | 5,5 c/v |
Campi, cidades, estados e regiões
Cobertura geográfica de L2 (PPI + Baixa Renda): 1 campi em 1 cidades.
- UFRJ — Cidade Universitária — Rio de Janeiro/RJ • Sudeste
