Notas de corte de Cenografia E Indumentaria no Sisu 2027
Compare as notas de corte de Cenografia E Indumentaria nas instituições participantes. Os dados de 2026 servem como referência para acompanhar o Sisu 2027 e não representam notas oficiais do próximo processo.
A página abre em Ampla Concorrência. Você pode trocar a modalidade, visualizar 20 opções por página e abrir o histórico de cada oferta para comparar notas, vagas, inscritos e candidatos por vaga ao longo dos anos disponíveis.
L2 (PPI + Baixa Renda)
Em L2 (PPI + Baixa Renda), há 1 opção de instituição para Cenografia E Indumentaria no Sisu 2026. A menor nota de corte foi 604,33, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO) • Campus Pasteur 436 • Rio de Janeiro/RJ. A maior chegou a 604,33, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO) • Campus Pasteur 436 • Rio de Janeiro/RJ. Instituição com mais inscritos foi UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO), com 50 inscritos. No total, a modalidade soma 50 inscrições para 3 vagas, uma concorrência de 16,7 candidatos por vaga.
Cenografia E Indumentaria — L2 (PPI + Baixa Renda)
20 opções por página, ordenadas da maior para a menor nota. As barras usam a escala 400–900 pontos.
CENOGRAFIA E INDUMENTÁRIA — UNIRIO
Campus: Campus Pasteur 436 | Turno: Integral
| Ano | Nota | Vagas | Inscritos | C/V |
|---|---|---|---|---|
| 2025 | 541,80 | 3 | 29 | 9,7 c/v |
| 2026 | 604,33 | 3 | 50 | 16,7 c/v |
Campi, cidades, estados e regiões
Cobertura geográfica de L2 (PPI + Baixa Renda): 1 campi em 1 cidades.
- UNIRIO — Campus Pasteur 436 — Rio de Janeiro/RJ • Sudeste
