Notas de corte de Cenografia E Indumentaria no Sisu 2027
Compare as notas de corte de Cenografia E Indumentaria nas instituições participantes. Os dados de 2026 servem como referência para acompanhar o Sisu 2027 e não representam notas oficiais do próximo processo.
A página abre em Ampla Concorrência. Você pode trocar a modalidade, visualizar 20 opções por página e abrir o histórico de cada oferta para comparar notas, vagas, inscritos e candidatos por vaga ao longo dos anos disponíveis.
L5 (Escola Pública - Indep. Renda)
Em L5 (Escola Pública - Indep. Renda), há 1 opção de instituição para Cenografia E Indumentaria no Sisu 2026. A menor nota de corte foi 687,16, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO) • Campus Pasteur 436 • Rio de Janeiro/RJ. A maior chegou a 687,16, em UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO) • Campus Pasteur 436 • Rio de Janeiro/RJ. Instituição com mais inscritos foi UNIVERSIDADE FEDERAL DO ESTADO DO RIO DE (UNIRIO), com 144 inscritos. No total, a modalidade soma 144 inscrições para 1 vagas, uma concorrência de 144,0 candidatos por vaga.
Cenografia E Indumentaria — L5 (Escola Pública - Indep. Renda)
20 opções por página, ordenadas da maior para a menor nota. As barras usam a escala 400–900 pontos.
CENOGRAFIA E INDUMENTÁRIA — UNIRIO
Campus: Campus Pasteur 436 | Turno: Integral
| Ano | Nota | Vagas | Inscritos | C/V |
|---|---|---|---|---|
| 2025 | 675,95 | 1 | 69 | 69,0 c/v |
| 2026 | 687,16 | 1 | 144 | 144,0 c/v |
Campi, cidades, estados e regiões
Cobertura geográfica de L5 (Escola Pública - Indep. Renda): 1 campi em 1 cidades.
- UNIRIO — Campus Pasteur 436 — Rio de Janeiro/RJ • Sudeste
